半導(dǎo)體研磨廢水處理方法
在集成電路封裝制作過程中會對晶片進(jìn)行切割和研磨,并且會運(yùn)用超純水進(jìn)行洗凈,這樣就發(fā)生了少量的切割研磨廢水。目前國內(nèi)很多的廠家是采取加藥混凝積淀和濾袋過濾方法處理的,出水到達(dá)污水綜合處理達(dá)標(biāo)排放的規(guī)范。
半導(dǎo)體研磨廢水的處理方法,純水設(shè)備其特性在于,包含如下步驟:
(1)通過廢水搜集箱搜集硅片研磨發(fā)生的廢水;
(2)應(yīng)用水泵將廢水泵入多介質(zhì)過濾器進(jìn)行一次過濾;
(3)將經(jīng)過一次過濾的水送入保安過濾器進(jìn)行第二次過濾,所述的保安過濾器用于掩護(hù)超濾膜;
(4)將經(jīng)過第二次過濾的水送入超濾膜過濾安裝中進(jìn)行第三次過濾;
(5)通過SDI測定儀或許濁度儀測定并判定經(jīng)過第三次過濾的水能否契合欲先設(shè)定的規(guī)范請求,如契合規(guī)范請求,送入產(chǎn)水箱;純水設(shè)備,實(shí)驗(yàn)室純水設(shè)備,濟(jì)南水處理設(shè)備,濟(jì)南去離子水設(shè)備。 濟(jì)南純水設(shè)備,醫(yī)用GMP純化水設(shè)備。半導(dǎo)體純水設(shè)備。
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